| 材質(zhì) | 氧化鋁 |
|---|---|
| 規(guī)格 | 800 |
| 類型 | 高效 |
| 適用對象 | 水 |
| 用途 | 水過濾 |
| 品牌 | 拓撲 |
有獎征圖
目前，膜的重要作用正廣為大家所認知，深圳拓撲精膜科技有限公司(//topmembranes.com)為了滿足廣大用戶對AAO模板、AAO濾膜、單通AAO模板、雙通AAO模板以及其它定制類產(chǎn)品的需求，充分調(diào)動和鼓勵用戶對產(chǎn)品本身以及產(chǎn)品應用的興趣，公司將不斷完善各類AAO產(chǎn)品的進一步研發(fā)生產(chǎn)，提供高性能的產(chǎn)品服務大家！
現(xiàn)面向廣大AAO產(chǎn)品用戶，征集實驗圖例方案，并將征集辦法公告如下：
一、征集要求
1. 凡是使用AAO相關產(chǎn)品所取得的圖片均滿足要求（包括AAO材料本身以及用AAO產(chǎn)品制備的任何材料所得到的圖片）；
2. 圖片可以是光學圖、SEM圖、AFM圖等表現(xiàn)形式；
3. 圖片的提供者不限于公司客戶，所有用戶均可參賽；
二、征集方式
1.征集時間：自公布之日起至2017年9月30日止。
2.征集內(nèi)容：AAO膜實驗電子版圖例（JPG格式，并附100字左右文字說明）發(fā)送至郵箱： nano@topmembranes.com
3.來稿須注明聯(lián)系電話、公司或高校名稱、聯(lián)系人姓名（以備獲獎聯(lián)系）。
郵件格式：
標題：AAO參賽圖
內(nèi)容：姓名——公司或高校名稱——聯(lián)系電話
描述：100字左右
圖片附件。
三、獎項設置
1. 本期征集為第一期，本期征集活動設最佳圖片獎1名，獎品為高檔空氣凈化器1臺；
2. 所有成功參賽者均可在下次訂購產(chǎn)品或9折優(yōu)惠。
四、其它事宜
1.所有征集作品設計版權(quán)歸作者所有，應征作品必須是作者自己研究所得，不得拷貝；
2.本次征集作品由“深圳拓撲精膜科技有限公司”組織相關技術(shù)專家組成評審組進行評審，評審組將于2017年10月15日前完成評審，并通知獲獎作品的作者。
超薄AAO模板
超薄AAO（Anodic Aluminum Oxide）模板為雙通結(jié)構(gòu)，厚度僅為幾十到幾百納米，廣泛應用于納米點陣列、納米線陣列等的制備以及襯底表面圖案化處理等。超薄AAO模板孔徑均一，孔排列短程有序，氧化鋁的材質(zhì)使其在可見光波段是透明的，而且是電絕緣的。相對于其它圖形化納米結(jié)構(gòu)制備手段，超薄AAO模板的獨特優(yōu)勢在于可以輕易地獲得平方厘米的尺度低至十納米級的結(jié)構(gòu)，而且成本低廉。
圖1. （上）超薄AAO模板產(chǎn)品結(jié)構(gòu)示意圖；（下）一片較大面積的超薄AAO模板實物圖
圖2. 小面積超薄AAO模板實物圖
超薄AAO模板的一個缺點就是操作困難，這是因為AAO厚度小于1微米時不能自支撐，而且非常脆弱，使用非常不方便。我們將超薄AAO模板表面涂覆一層PMMA作支撐，如圖1所示，可以非常方便地取放、裁剪、轉(zhuǎn)移到任意目標襯底之上。較小面積的超薄AAO模板的實物圖如圖2所示。包裝盒內(nèi)膜的PMMA面為朝下放置。
圖3. 超薄AAO模板轉(zhuǎn)移方法示意圖
超薄AAO模板一般需要轉(zhuǎn)移到目標襯底之上使用，圖3給出了帶有PMMA支撐層的超薄AAO的一種轉(zhuǎn)移方法。首先將目標基底清洗干凈，最好進行親水處理以使AAO將與基底貼合更加均勻緊密。親水處理可以采用小功率氧氣（或空氣）plasma清洗處理，或采用紫外光表面處理機處理。然后將PMMA/AAO剪裁成所需形狀和大小放置于襯底之上。采用丙酮中即可除去PMMA支撐層，在此過程中，超薄AAO模板將與襯底貼合。除去PMMA之后，由于超薄AAO很脆弱，請勿碰觸AAO超薄膜表面，以免AAO破損。轉(zhuǎn)移操作過程中所有容器及操作臺面務必事先清洗干凈。關于超薄AAO模板的詳細轉(zhuǎn)移操作以及轉(zhuǎn)移技巧請與我們聯(lián)系。
圖4. 超薄AAO（左）SEM俯視圖和（右）30°視圖
圖5. （左）轉(zhuǎn)移至硅片表面，（中）轉(zhuǎn)移到載玻片表面，（右）轉(zhuǎn)移到石英玻璃表面
圖6. 超薄AAO模板的近距離透光性。(a,b) 孔間距較小的AAO，石英片基底，（c）孔間距450nm，普通玻璃基底
圖4為轉(zhuǎn)移到硅基底上的超薄AAO模板的SEM圖。圖5為轉(zhuǎn)移到硅片、普通玻璃以及石英玻璃表面的超薄AAO模板的實物照片。可以看到超薄與基底貼合緊密，透明度很高。采用類似方法，可以方便地將大面積的超薄AAO轉(zhuǎn)移到Si、藍寶石、SiC、ZnO、GaN、ITO、FTO、PDMS、PET等其它基底表面。以超薄AAO為掩膜版，可以進行金屬或半導體納米材料的沉積，從而獲得納米材料點陣，可以以金屬納米點陣為催化劑生長納米線陣列。可以直接以AAO為掩膜進行基底的刻蝕處理。
如果您不想自己進行超薄膜的轉(zhuǎn)移，我們也提供超薄膜的轉(zhuǎn)移服務，基底由您提供或者使用我們的基底。具體的轉(zhuǎn)移收費標準請與我們的客服聯(lián)系。
注：如果將PMMA面貼于基底，待PMMA除去后，AAO的正面與基底接觸，由于AAO正面孔與孔之間大部分是凸起結(jié)構(gòu)，所以此時AAO與基底的接觸面就比較小，與基底的結(jié)合變?nèi)酰A計AAO在后期可能更加容易用膠帶粘掉。
超薄AAO模板在任何情況下都不可以用超聲清洗，否則可能會完全破碎。
超薄AAO模板加熱到五六百度時可以的，但是如果加熱到更高溫度，由于膨脹系數(shù)等差異，超薄膜可能出現(xiàn)裂紋，所以高溫實驗需謹慎。
孔中心間距65nm、100nm、125nm的超薄AAO模板是無色的，孔中心間距450nm的超薄膜是淡藍色的。物理蒸發(fā)制備納米顆粒選取超薄AAO時，一般選取孔直徑與膜厚的比例為1:3~1:6。AAO膜如果太薄，則膜在操作過程中容易損壞，而且AAO與基底粘附性可能會太強；如果太厚，材料蒸氣到達不了基底，導致沉積失敗。AAO結(jié)構(gòu)參數(shù)、沉積厚度與得到的納米顆粒的形狀的關系，可以參閱文獻：Chem. Mater., 2005, 17, 580-585。
將AAO轉(zhuǎn)移到基底上干燥后，如果想把基底浸沒在水溶液中，一般不可以直接將覆蓋AAO的基底直接插入水溶液中，因為水溶液的表面張力會作用于AAO膜的邊緣，很可能將AAO從基底表面掀起來而漂浮在水溶液的表面，AAO就與基底脫離了。比較保險的方法是將AAO膜的四周邊緣密封起來，比如，可以使用PMMA的丙酮溶液涂一圈，等溶劑揮發(fā)完以后，PMMA固化，從而保護AAO邊緣不與水溶液接觸，這樣會大大降低AAO與基底脫離的幾率。
如果想提高AAO與基底的結(jié)合力，可以將AAO與基底都進行很好的親水處理，請參閱文獻Langmuir 2017, 33, 503?509。
利用轉(zhuǎn)移的AAO做電化學沉積然后制備納米顆粒，目前可能只有2篇文獻有相關報道(Sci. Rep.2016,6,18967和Langmuir 2017, 33, 503?509)，因此風險較高，因為轉(zhuǎn)移AAO與基底畢竟是物理吸附，電化學沉積時體系情況復雜，很可能使AAO與基底之間產(chǎn)生縫隙而導致不能形成顆粒，因此實驗設計時需謹慎。
圖7. 超薄AAO模板制備的納米顆粒陣列示例
溫馨提示：AAO模板為自下而上的方法制備，屬于自組織結(jié)構(gòu)，因此它的孔徑都有一定的分布范圍，而不是單一值，特別是孔間距450nm的模板不均勻性略大一些。孔的排列為短程有序（微米級），每個有序區(qū)域可稱為一個“籌”，在籌邊界處孔的形狀可能大都不是正圓形。超薄膜的孔徑分布比雙通厚膜以及單通膜寬一些。如果您對多孔膜的孔徑均勻程度要求非常高，對孔的圓形程度要求非常高，那么AAO并不是好的選擇。
