| 材質 | 氧化鋁 |
|---|---|
| 規格 | 800 |
| 類型 | 高效 |
| 適用對象 | 水 |
| 用途 | 水過濾 |
| 品牌 | 拓撲 |
有獎征圖
目前，膜的重要作用正廣為大家所認知，深圳拓撲精膜科技有限公司(//topmembranes.com)為了滿足廣大用戶對AAO模板、AAO濾膜、單通AAO模板、雙通AAO模板以及其它定制類產品的需求，充分調動和鼓勵用戶對產品本身以及產品應用的興趣，公司將不斷完善各類AAO產品的進一步研發生產，提供高性能的產品服務大家！
現面向廣大AAO產品用戶，征集實驗圖例方案，并將征集辦法公告如下：
一、征集要求
1. 凡是使用AAO相關產品所取得的圖片均滿足要求（包括AAO材料本身以及用AAO產品制備的任何材料所得到的圖片）；
2. 圖片可以是光學圖、SEM圖、AFM圖等表現形式；
3. 圖片的提供者不限于公司客戶，所有用戶均可參賽；
二、征集方式
1.征集時間：自公布之日起至2017年9月30日止。
2.征集內容：AAO膜實驗電子版圖例（JPG格式，并附100字左右文字說明）發送至郵箱： nano@topmembranes.com
3.來稿須注明聯系電話、公司或高校名稱、聯系人姓名（以備獲獎聯系）。
郵件格式：
標題：AAO參賽圖
內容：姓名——公司或高校名稱——聯系電話
描述：100字左右
圖片附件。
三、獎項設置
1. 本期征集為第一期，本期征集活動設最佳圖片獎1名，獎品為高檔空氣凈化器1臺；
2. 所有成功參賽者均可在下次訂購產品或9折優惠。
四、其它事宜
1.所有征集作品設計版權歸作者所有，應征作品必須是作者自己研究所得，不得拷貝；
2.本次征集作品由“深圳拓撲精膜科技有限公司”組織相關技術專家組成評審組進行評審，評審組將于2017年10月15日前完成評審，并通知獲獎作品的作者。
超薄AAO模板
超薄AAO（Anodic Aluminum Oxide）模板為雙通結構，厚度僅為幾十到幾百納米，廣泛應用于納米點陣列、納米線陣列等的制備以及襯底表面圖案化處理等。超薄AAO模板孔徑均一，孔排列短程有序，氧化鋁的材質使其在可見光波段是透明的，而且是電絕緣的。相對于其它圖形化納米結構制備手段，超薄AAO模板的獨特優勢在于可以輕易地獲得平方厘米的尺度低至十納米級的結構，而且成本低廉。
圖1. （上）超薄AAO模板產品結構示意圖；（下）一片較大面積的超薄AAO模板實物圖
圖2. 小面積超薄AAO模板實物圖
超薄AAO模板的一個缺點就是操作困難，這是因為AAO厚度小于1微米時不能自支撐，而且非常脆弱，使用非常不方便。我們將超薄AAO模板表面涂覆一層PMMA作支撐，如圖1所示，可以非常方便地取放、裁剪、轉移到任意目標襯底之上。較小面積的超薄AAO模板的實物圖如圖2所示。包裝盒內膜的PMMA面為朝下放置。
圖3. 超薄AAO模板轉移方法示意圖
超薄AAO模板一般需要轉移到目標襯底之上使用，圖3給出了帶有PMMA支撐層的超薄AAO的一種轉移方法。首先將目標基底清洗干凈，最好進行親水處理以使AAO將與基底貼合更加均勻緊密。親水處理可以采用小功率氧氣（或空氣）plasma清洗處理，或采用紫外光表面處理機處理。然后將PMMA/AAO剪裁成所需形狀和大小放置于襯底之上。采用丙酮中即可除去PMMA支撐層，在此過程中，超薄AAO模板將與襯底貼合。除去PMMA之后，由于超薄AAO很脆弱，請勿碰觸AAO超薄膜表面，以免AAO破損。轉移操作過程中所有容器及操作臺面務必事先清洗干凈。關于超薄AAO模板的詳細轉移操作以及轉移技巧請與我們聯系。
圖4. 超薄AAO（左）SEM俯視圖和（右）30°視圖
圖5. （左）轉移至硅片表面，（中）轉移到載玻片表面，（右）轉移到石英玻璃表面
圖6. 超薄AAO模板的近距離透光性。(a,b) 孔間距較小的AAO，石英片基底，（c）孔間距450nm，普通玻璃基底
圖4為轉移到硅基底上的超薄AAO模板的SEM圖。圖5為轉移到硅片、普通玻璃以及石英玻璃表面的超薄AAO模板的實物照片。可以看到超薄與基底貼合緊密，透明度很高。采用類似方法，可以方便地將大面積的超薄AAO轉移到Si、藍寶石、SiC、ZnO、GaN、ITO、FTO、PDMS、PET等其它基底表面。以超薄AAO為掩膜版，可以進行金屬或半導體納米材料的沉積，從而獲得納米材料點陣，可以以金屬納米點陣為催化劑生長納米線陣列。可以直接以AAO為掩膜進行基底的刻蝕處理。
如果您不想自己進行超薄膜的轉移，我們也提供超薄膜的轉移服務，基底由您提供或者使用我們的基底。具體的轉移收費標準請與我們的客服聯系。
注：如果將PMMA面貼于基底，待PMMA除去后，AAO的正面與基底接觸，由于AAO正面孔與孔之間大部分是凸起結構，所以此時AAO與基底的接觸面就比較小，與基底的結合變弱，預計AAO在后期可能更加容易用膠帶粘掉。
超薄AAO模板在任何情況下都不可以用超聲清洗，否則可能會完全破碎。
超薄AAO模板加熱到五六百度時可以的，但是如果加熱到更高溫度，由于膨脹系數等差異，超薄膜可能出現裂紋，所以高溫實驗需謹慎。
孔中心間距65nm、100nm、125nm的超薄AAO模板是無色的，孔中心間距450nm的超薄膜是淡藍色的。物理蒸發制備納米顆粒選取超薄AAO時，一般選取孔直徑與膜厚的比例為1:3~1:6。AAO膜如果太薄，則膜在操作過程中容易損壞，而且AAO與基底粘附性可能會太強；如果太厚，材料蒸氣到達不了基底，導致沉積失敗。AAO結構參數、沉積厚度與得到的納米顆粒的形狀的關系，可以參閱文獻：Chem. Mater., 2005, 17, 580-585。
將AAO轉移到基底上干燥后，如果想把基底浸沒在水溶液中，一般不可以直接將覆蓋AAO的基底直接插入水溶液中，因為水溶液的表面張力會作用于AAO膜的邊緣，很可能將AAO從基底表面掀起來而漂浮在水溶液的表面，AAO就與基底脫離了。比較保險的方法是將AAO膜的四周邊緣密封起來，比如，可以使用PMMA的丙酮溶液涂一圈，等溶劑揮發完以后，PMMA固化，從而保護AAO邊緣不與水溶液接觸，這樣會大大降低AAO與基底脫離的幾率。
如果想提高AAO與基底的結合力，可以將AAO與基底都進行很好的親水處理，請參閱文獻Langmuir 2017, 33, 503?509。
利用轉移的AAO做電化學沉積然后制備納米顆粒，目前可能只有2篇文獻有相關報道(Sci. Rep.2016,6,18967和Langmuir 2017, 33, 503?509)，因此風險較高，因為轉移AAO與基底畢竟是物理吸附，電化學沉積時體系情況復雜，很可能使AAO與基底之間產生縫隙而導致不能形成顆粒，因此實驗設計時需謹慎。
圖7. 超薄AAO模板制備的納米顆粒陣列示例
溫馨提示：AAO模板為自下而上的方法制備，屬于自組織結構，因此它的孔徑都有一定的分布范圍，而不是單一值，特別是孔間距450nm的模板不均勻性略大一些。孔的排列為短程有序（微米級），每個有序區域可稱為一個“籌”，在籌邊界處孔的形狀可能大都不是正圓形。超薄膜的孔徑分布比雙通厚膜以及單通膜寬一些。如果您對多孔膜的孔徑均勻程度要求非常高，對孔的圓形程度要求非常高，那么AAO并不是好的選擇。
