| 保質(zhì)期 | 36個(gè)月 |
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| 產(chǎn)地 | 江蘇 |
| 類別 | 光亮劑 |
| 執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn) | 國標(biāo) |
| 種類 | 鍍鋅添加劑 |
| 主要用途 | 光亮鍍鋅工藝 |
| 分類 | 電鍍助劑 |
| 品牌 | 夢(mèng)得 MENGDE |
| 型號(hào) | CT-Ⅰ |
| 準(zhǔn)入認(rèn)證 | IOS9001 |
1. 具有優(yōu)良的光亮度、平滑度及均一度。
2. 出光快，濁點(diǎn)高，耐溫性好，電流效率高，降低對(duì)鍍液冷卻要求，節(jié)省能源，增加產(chǎn)能。
3. 吊鍍、滾鍍均適用。
4. 廢水處理容易。
| 原料及操作條件 | 范圍 | 標(biāo)準(zhǔn) |
| **（KCL） | 190-220g/L | 200g/L |
| 氯化鋅（ZnCL2） | 50-70g/L | 60g/L |
| 硼酸（H3BO3） | 25-35g/L | 30/L |
| CT-Ⅰ光亮劑 | 0.6-0.8ml/L | 0.7ml/L |
| CT-Ⅰ柔軟劑 | 15-25ml/L | 20ml/L |
| PH | 4.8-5.8 | 5.2 |
| 溫度 | 15-50℃ | 30℃ |
| 陰極電流密度 | 0.3-5A/dm2 | 2A/dm2 |
1、 鍍液要做到三定（定期分析，定期加料，定期過濾）。
2、 CT-Ⅰ 光亮劑的消耗量60-100mL/KAH，CT-Ⅰ 柔軟劑的消耗量150-300 mL/KAH，補(bǔ)加藥水時(shí)，按光亮劑：柔軟劑=1:3的比例補(bǔ)加。
3、 鐵雜質(zhì)的影響和處理：當(dāng)鐵雜質(zhì)的含量大于5g/L時(shí)，高電流密度區(qū)出現(xiàn)燒焦和粗糙現(xiàn)象，低電流密度區(qū)鍍層泛黃。可用本公司開發(fā)的綜合除雜劑進(jìn)行處理。先加入1-2ml/L 綜合除雜劑 A劑，充分?jǐn)嚢韬螅偌尤?-2ml/L B劑，充分?jǐn)嚢韬笞屍潇o止沉淀，然后進(jìn)行過濾。處理結(jié)束后，需要適量補(bǔ)充一些光亮劑。
4、 銅雜質(zhì)的影響和處理：銅雜質(zhì)對(duì)鍍液的影響較大，當(dāng)銅雜質(zhì)在鍍液中含量過高時(shí)，高電流密度區(qū)會(huì)出現(xiàn)燒焦和粗糙，低電流密度區(qū)鍍層發(fā)黑。可用小電流電解除去。緊急情況下也可用1-2g/L的鋅粉處理。
5、 有機(jī)雜質(zhì)的影響和處理：有機(jī)雜質(zhì)累積到一定量后，會(huì)使鍍層粗糙、發(fā)霧，鈍化后無光澤，覆蓋能力下降。可加入1-3g/L活性炭，經(jīng)充分?jǐn)嚢瑁o置過夜后過濾。
(1)先將計(jì)算量的**、硼酸加入槽內(nèi)，攪拌使其溶解；
(2)將計(jì)算量的氯化鋅用少量水溶解，在強(qiáng)烈攪拌下，加入1g／L～2g／L鋅粉，攪拌30min，靜置2～3小時(shí)，過濾清液到鍍槽；
(3)加入選定的組合添加劑，然后加水至總體積，攪拌均勻，測(cè)定pH值并調(diào)整到工藝規(guī)范內(nèi)，低電流0．1A／dm2～0．3A／dm2電解數(shù)小時(shí)后試鍍。
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